铝和正溴 溴代 胶体清洗剂

为实现技术服务的本地化，上海锐一公司是由业内的团队组建，在业内属于良好的以技术支持为主的公司。
上海锐一公司历经十几年的发展，经历了CFC制冷剂替代以及清洗剂替代的整个过程。不断推出新的产品、技术，并锤炼出了一支技术服务团队。
正溴使用蒸汽脱脂挑战是需要安全和可持续的溶剂。 常用的溶剂n-溴在接触时对工人构成安全风险，法规禁止使用 AK-225 等氟氯烃。许多制造商现在正在寻找对员工和环境安全的解决方案，以牺牲性能为代价。

Enasolv ES精密清洗溶剂是一种稳定的正溴基二元共沸物，具有类似于1,1,1-三和三氯等氯化溶剂的物理性质和溶解性能。本产品适用于去除浸没和蒸汽清洗应用中的污染物，如油、油脂、粘合剂、树脂和助焊剂残留物。Enasolv 3号溶剂是使用氯化物、HCFC-141B、HCFC225和HFC/HFE溶剂的替代品。

正溴提供非常低的臭氧消耗潜能值(ODP)和较低的**变暖潜能值(GWP)。它们没有标签封闭杯或开放式杯方法的闪点,它们易于回收,与金属兼容,并且比其他溶剂不太可能引起腐蚀。
优点：出色的溶解性和清洁 快速干燥 优渗透到缝隙 中 与大多数蒸汽脱脂剂兼容 环境负责 的低蒸发排放 较低的酸形成可以蒸馏和回收 不受管制为易燃DOT 不受 SARA 313、NESHAP、HAP、RCRA 安全法规的约束,可配备适当的工人保护和适当的通风。

ENASOLV 系列电子清洗剂具有挥发速度快，清洗力强，不可燃，味道小，符合环保要求的清洗剂产品。可以清洗电子产品助焊剂，灰尘以及油脂类污渍。三个型号分别如下：
ENASOLV 2004是一款以适于减少健康因素和日益增长的环境法规而开发的高清洗力氟化清洗剂。可以用于浸泡洗、标准蒸汽去脂工艺、以及有高浸润性能要求和快干的清洗工艺。
ENASOLV 2004在蒸汽去脂工艺设备上，可以直接替代正溴类清洗剂、HCFC141B、225等过渡品，以及高成本的HFC、HFE类清洗剂。
ENASOLV 2004可以去除电路印刷组装中助焊剂、焊锡膏、离子残留等，也可以去除精密金属加工中的机加工油脂、颗粒、粘结剂等，以及光学玻璃的颗粒、液晶、油脂等的清洗。
ENASOLV 2004安全适用于金属工件，例如铝、铜、铜合金、、镍、碳钢、不锈钢、锌等工件。也适于多数塑料、橡胶件等非金属工件。
上海锐一公司历经十几年的发展，经历了CFC制冷剂替代以及清洗剂替代的整个过程。不断推出新的产品、技术，并锤炼出了一支技术服务团队。
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