电子陶瓷清洗剂 正溴清洗剂替代品

ENASOLV专有特种溶剂混合物。 它用于去除部件中的细颗粒和离子土壤。它为极性清洗提供了高的清洗力 ，同时保持与大多数塑料、陶瓷和金属部件的良好兼容性。典型应用离子去除。金属氧化物半导体（CMOS） 颗粒去除、精密清洁和去除金属、塑料和玻璃基板中的轻质油污。
快速干燥，提高生产率
与大多数金属和弹性体兼容
不易燃和低 low毒性
可忽略的臭氧消耗潜力
低**变暖潜力 (GWP)
的清洁性能 (（Kb 值 = 99）

应用：
汽车。
燃油喷射、防锁制动系统、压缩机、继电器、传感器、开关。
航空 航天。
燃油喷射、起落架、印刷电路板。
眼镜、导管、手术装置/针头、植入物。
消费品 。
手表、珠宝、相机镜头、平板 panel显示器、光学组件。
电子/半导体。
印刷电路板、电气触点、电缆、光纤、 硅片前开统一吊舱 （FOPS） 和翻转芯片。

ENASOLV清洗剂与塑料和弹性体兼容性
大多数塑料和弹性体可以在ENASOLV清洗剂中安全清洁。汇总了无应力塑料和弹性体短期暴露的测试结果。

不易燃
提高极性土壤和颗粒去除的清洁性能
快速干燥，具有沸点，可立即加工和使用清洁部件
高土壤负载能力通过减少与溶剂更换相关的设备停机时间来提高生产率
产品在使用过程中保持组合稳定性
*表面活性剂：去除额外的洗涤步骤，实现无残留清洁
低气味和毒性。
ENASOLV清洗剂可替代产品：Trichloroethylene (TCE)，n-Propyl Bromide (nPB)，Lenium，AK-225，Novec 72DE，Solstice PF，TF-113， Water等。
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