三氯 正溴 毒性 溴代 环保清洗剂

正溴清洁剂是用于蒸汽脱脂、冷清洗和超声波清洗的高性能精密清洁溶剂,但与氯碳、氯碳和氯氟烃有一些非常重要的区别。
沸点 （°C ） 70°C
特异性重力 = 25°C （H O=1） 1.31
闪点 TCC （°C） 无
基础材料符合 ASTM-D 6368 是
可燃性极限 （vol. %）基于 n-Propyl 溴化物 3.8 - 9.5 %
蒸汽压力 25°C （毫米汞柱） 134
蒸汽密度 （空气 1） 4.2 蒸发率 （丁基盐 = 1） 4.7
比热值 25°C （cal/g） 0.26
电介质强度 （交流伏特） 21，000
外观透明 无悬浮物质
KB值 清洗力 ：125

Enasolv ES精密清洗溶剂是一种稳定的正溴基二元共沸物，具有类似于1,1,1-三氯和三氯等氯化溶剂的物理性质和溶解性能。本产品适用于去除浸没和蒸汽清洗应用中的污染物，如油、油脂、粘合剂、树脂和助焊剂残留物。Enasolv 3号溶剂是使用氯化物、HCFC-141B、HCFC225和HFC/HFE溶剂的替代品。

的溶解和清洗能力
高KB值（考立丁醇值），几乎等同于氯化溶剂。
快速干燥
*加热或真空干燥设备
不受DOT（运输部）易燃品限制
因无闪点，所以不受DOT的易燃品运输限制。
环保性
臭氧破坏指数和**变暖指数都很低，在大气中存活时间很短（11天）。

ENASOLV 系列电子清洗剂具有挥发速度快，清洗力强，不可燃，味道小，符合环保要求的清洗剂产品。可以清洗电子产品助焊剂，灰尘以及油脂类污渍。三个型号分别如下：
ENASOLV 2004是一款以适于减少健康因素和日益增长的环境法规而开发的高清洗力氟化清洗剂。可以用于浸泡洗、标准蒸汽去脂工艺、以及有高浸润性能要求和快干的清洗工艺。
ENASOLV 2004在蒸汽去脂工艺设备上，可以直接替代正溴类清洗剂、HCFC141B、225等过渡品，以及高成本的HFC、HFE类清洗剂。
ENASOLV 2004可以高效去除电路印刷组装中助焊剂、焊锡膏、离子残留等，也可以高效去除精密金属加工中的机加工油脂、颗粒、粘结剂等，以及光学玻璃的颗粒、液晶、油脂等的清洗。
ENASOLV 2004安全适用于金属工件，例如铝、铜、铜合金、、镍、碳钢、不锈钢、锌等工件。也适于多数塑料、橡胶件等非金属工件。